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異なる酸化剤を用いた原子層堆積法により作製した 強誘電体HfxZr1−xO2/TiNの構造評価
(Structural analysis of ferroelectric HfxZr1−xO2/TiN fabricated using atomic layer deposition with different oxidant)

女屋 崇, 生田目 俊秀, 長田 貴弘, 上田 茂典, Y. C. Jung, H. Hernandez-Arriaga, J. Mohan, J. Kim, C.-Y. Nam, E. H. R. Tsai, 喜多 浩之, 右田 真司, 太田 裕之, 森田 行則.
2022年　第83回応用物理学会秋季学術講演会. September 20, 2022-September 23, 2022.

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    Created at: 2023-04-10 17:34:50 +0900 Updated at: 2023-04-10 17:34:50 +0900

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