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フルシリサイドゲートのためのNiSi形成反応のその場TEM観察
(In-situ TEM observation of Ni-silicide formation for FUSI gate)

細井卓治, 芝原健太郎, 長谷川 明, 古屋 一夫.
第67回応用物理学会学術講演会. 2006年08月29日-2006年09月01日.

NIMS著者


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      作成時刻: 2017-01-08 04:33:22 +0900 更新時刻: 2017-07-10 19:44:17 +0900

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