HOME > Presentation > Detail
フェムト秒レーザー光照射による石英ガラス中へのナノSi領域の初期形成過程
(Initial Formation Process of Nano-Si Regions in SiO2 by fs-laser Irradiation)
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会. 2004.
NIMS author(s)
Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)
Created at: 2017-02-14 10:59:16 +0900Updated at: 2017-07-10 18:56:56 +0900