HOME > 口頭発表 > 書誌詳細同位体選択的赤外多光子解離されたフロロシランからの同位体濃縮 Si薄膜の作製(Formation of isotope enriched Si films from isotopically selective infrared multi-photon decomposition of fluoro-silane)大場弘則, 鈴木 裕, 江坂文孝, 田口富嗣, 山田洋一, 山本博之, 笹瀬雅人, 横山 淳. 第49回真空に関する連合講演会. 2008.NIMS著者鈴木 裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-01-08 04:17:57 +0900 更新時刻 :2017-07-10 20:19:35 +0900