HOME > Presentation > Detail反応性スパッタリング法によるMoドープした酸化スズ膜の形成(Fabrication of Tin oxide films by reactive sputtering using a Sn-Mo metal-sintered target)澤田 朋実, 生田目 俊秀, 石井 智, ダオ デュイ タン, 山本 逸平, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 大石知司, 小椋厚志, 長尾 忠昭. 金属学会 2015年春期(第156回)講演大会. 2015.NIMS author(s)NABATAME, ToshihideISHII, SatoshiOHI, AkihikoNAGAO, TadaakiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 04:53:05 +0900Updated at: 2017-07-10 22:03:30 +0900