HOME > Presentation > Detailスパッタリング法により作製したBi,Pb-2223薄膜の臨界電流密度土屋 啓輔, 吉村 兆貢, 末吉 哲郎, 藤吉 孝則, 松本 明善, 北口 仁. 2012年秋季低温工学・超電導学会. 2012.NIMS author(s)MATSUMOTO, AkiyoshiKITAGUCHI, HitoshiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 04:46:47 +0900Updated at: 2017-07-10 21:36:37 +0900