SAMURAI - NIMS Researchers Database

HOME > Presentation > Detail

Ge上ルチル型TiO2_High-k層へのYドープ濃度の依存性
(Influence of Y doping for rutil type TiO2 on Ge)

鈴木 良尚, 長田 貴弘, 山下 良之, パウルサミー チナマトゥ, 生田目 俊秀, 小橋 和義, 小椋厚志, 知京 豊裕.
ゲートスタック研究会. 2015.

NIMS author(s)


Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)


    Created at :2017-02-14 10:53:16 +0900 Updated at :2017-07-10 22:01:44 +0900

    ▲ Go to the top of this page