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著者名鈴木 良尚, 長田 貴弘, 山下 良之, パウルサミー チナマトゥ, 生田目 俊秀, 小橋 和義, 小椋厚志, 知京 豊裕.
タイトルGe上ルチル型TiO2_High-k層へのYドープ濃度の依存性
(Influence of Y doping for rutil type TiO2 on Ge)
会議名ゲートスタック研究会
発表年2015
言語Japanese
外部での文献参照

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