HOME > Presentation > DetailMBE法による酸化亜鉛基板上への窒化ガリウム薄膜作製(Growth of GaN films on single crystalline ZnO substrate prepared by molecular beam epitaxy)大垣 武, 杉村 茂昭, 大橋 直樹, 坂口 勲, 関口 隆史, 羽田 肇. 2004年度日本セラミックス協会年会. March 22, 2004-March 24, 2004.NIMS author(s)OGAKI, TakeshiOHASHI, NaokiSAKAGUCHI, IsaoFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 04:11:16 +0900 Updated at: 2017-07-10 18:56:25 +0900