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表面熱析出法を用いた 単原子層h-BN薄膜／LaB6ヘテロ構造の作製とその評価
シリコン材料・デバイス研究専門委員会（プロセス科学と新プロセス技術 ）. 2022-10-19. Invited
NIMS author(s)
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Created at: 2023-01-05 12:15:41 +0900 Updated at: 2024-03-05 12:22:07 +0900