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表面熱析出法を用いた 単原子層h-BN薄膜/LaB6ヘテロ構造の作製とその評価

長岡 克己, 相澤 俊, 大見俊一郎.
シリコン材料・デバイス研究専門委員会(プロセス科学と新プロセス技術 ). 2022-10-19. 招待講演

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    作成時刻: 2023-01-05 12:15:41 +0900更新時刻: 2024-03-05 12:22:07 +0900

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