HOME > 口頭発表 > 詳細表面熱析出法を用いた 単原子層h-BN薄膜／LaB6ヘテロ構造の作製とその評価著者長岡 克己, 相澤 俊, 大見俊一郎. 会議名シリコン材料・デバイス研究専門委員会（プロセス科学と新プロセス技術 ）発表年2022言語Japanese
