HOME > 口頭発表 > 書誌詳細(Oxygen migration at Pt or Cu/HfO2 interface under bias operation: oxide based ReRAM application)長田 貴弘, 南風盛 将光, 山下 良之, 吉川 英樹, 小林 啓介, 岩下 祐太, 知京 豊裕. 2011 Materials Research Society Spring Meeting and Exhibit. 2011.NIMS著者長田 貴弘山下 良之吉川 英樹知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-02-14 11:00:26 +0900 更新時刻 :2017-07-10 21:03:54 +0900