HOME > Presentation > DetailHf系High-k ゲート絶縁膜中における酸素空孔の挙動と窒素導入効果梅澤 直人, 白石 賢二, 赤坂泰志, 犬宮誠治, 上殿 明良, 宮崎 誠一, 知京 豊裕, 大野 隆央, 奈良安雄, 山田 啓作. 第5回High-kネット合同進歩報告会. 2005. InvitedNIMS author(s)CHIKYO, ToyohiroOHNO, TakahisaFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at :2017-02-14 11:45:42 +0900 Updated at :2024-03-05 11:40:46 +0900