液体原料（GaCp*）を用いた高純度Ga2O3薄膜の原子層堆積
(Atomic Layer Deposition of high quality Gallium Oxide Thin Films Using GaCp* Precursor )
第80回応用物理学会秋季学術講演会. 2019.
NIMS著者
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作成時刻: 2019-10-02 03:00:22 +0900更新時刻: 2019-10-02 03:00:22 +0900