HOME > Published patent applications > Detail[Published patent application] 室温高スピン偏極のホイスラー合金、並びにこれを用いた膜面垂直電流巨大磁気抵抗素子、トンネル磁気抵抗素子、及びこれらを用いた磁気デバイス、並びにこれを用いた半導体スピン注入素子及びこれを用いた発光素子2023-12-14. 2023178103 (Google Patents) NIMS author(s)KURNIAWAN, IvanMIURA, YoshioHONO, KazuhiroCreated at :2023-12-16 03:16:10 +0900 Updated at :2023-12-16 03:16:10 +0900