HOME > その他の文献 > 書誌詳細Oxidation Rate and Surface Potential Variations of Silicon During the Plasma Oxidation(プラズマ酸化によるシリコンの酸化速度と表面電位変動)M. Kitajima, 上岡功, 中村一隆, S. Hishita, I. Kamioka, K. G. Nakamura. Physical Review B 53 [7] 3993-3999. 1996.https://doi.org/10.1103/physrevb.53.3993 NIMS著者菱田 俊一Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2020-11-20 10:36:07 +0900 更新時刻 :2020-11-20 10:36:07 +0900