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論文・分野から探す

機構に所属する研究者の発表した論文を、タイトル・抄録・分野などから検索することができます。論文の分野はクラリベイト社のESI分類を参考に分類しています(Materials Science, Physics, Chemistry, Engineering, Biologyなど)。

最終更新日: 2024年07月15日

1289件の論文が見つかりました。論文は出版年月日順に表示しています。(ヘルプ)
  • 岡野健, 山田貴, H.Ishihara, S. Koizumi, 伊藤順司, K. Okano, T. Yamada, H. Ishihara, J. Itoh. Electron emission from nitrogen-doped piramidal shape diamond and its battery operation.. Applied Physics Letters. 70 [16] (1997) 2201-2203 10.1063/1.119041
  • Jun Nara, Taizo Sasaki, Takahisa Ohno. Theoretical Investigation on δ-doping of Se Atoms in GaAs. Applied Physics Letters. 70 [26] (1997) 3534-3536 10.1063/1.119224
  • D.Golberg, BANDO, Yoshio, M.Eremets, TAKEMURA, Kenichi, KURASHIMA, Keiji, YUSA, Hitoshi. Nanatubes in boron nitride laser heated at high pressure. Applied Physics Letters. (1996)
  • 渡辺美代子, 伊藤聡, 水島公一, 佐々木高義. Bonding characterization of BC2N thin films. Applied Physics Letters. (1996) 2962-2964
  • Q.D.Jiang, FUJITA, Daisuke, H.Y.Sheng, Z-C.Dong, NEJO, Hitoshi. Transfer of Cusp-Clusters on Si(111) 7×7 Surfaces from a Pure Au-Tip of scanning Tunneling Microscope. Applied Physics Letters. (1996)
  • 堀内繁雄, 賀連龍, 小野田みつ子, AKAISHI, Minoru. Monoclinic phase of boron nitride appearing during the hexagonal cubic phase transition at high pressure and high temperature. Applied Physics Letters. (1996) 182
  • K. Hono, 井上明久, 桜井利夫, 張援, Y. Zhang, A. Inoue, T. Sakurai. Partitioning of Si in Fe87Zr7Si4B2 Nanocrystalline Soft Magnetic Alloy. Applied Physics Letters. 69 [14] (1996) 2128-2130 10.1063/1.117176
  • K. Hono, 西巻純輝, 長谷川直也, 桜井利夫, J. Nishimaki, N. Hasegawa, T. Sakurai. Three Dimentional Aton Probe Analysis of Co-Cr-Ta Thin Films. Applied Physics Letters. 69 [20] (1996) 3095-3097 10.1063/1.117316
  • 平田俊也, K. Ishioka, M. Kitajima, T. Hirata. Raman Spectra of MoO3 Implanted with Protons. Applied Physics Letters. 68 [4] (1996) 458-460 10.1063/1.116412
  • 田中美代子, 古屋一夫, 斎藤鉄哉, Miyoko Tanaka, Kazuo Furuya, Tetsuya Saito. In-Situ Tem Observation of Structural Changes of Ni Disilicide Thin Films by Focused Ion Beam Lithography. Applied Physics Letters. 68 [7] (1996) 961-963 10.1063/1.116112
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