HOME > Article > DetailSiO2/4H-SiC における界面準位と界面構造の相関(Atomic Structures and Interface States Density at SiO2/4H-SiC Interface)山下 良之, インダリ エフィ ダウィ, Ryu HASUNUMA. 表面と真空 64 [7] 312-317. 2021.https://doi.org/10.1380/vss.64.312 Open Access 公益社団法人 日本表面真空学会 (Publisher) NIMS author(s)YAMASHITA, YoshiyukiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2021-08-07 03:00:19 +0900Updated at: 2024-04-02 04:13:46 +0900