An atomic carbon source for high temperature molecular beam epitaxy of graphene

J. D. Albar; A. Summerfield; T. S. Cheng; A. Davies; E. F. Smith; A. N. Khlobystov; C. J. Mellor; T. Taniguchi; K. Watanabe; C. T. Foxon; L. Eaves; P. H. Beton; S. V. Novikov; J. D. Albar; A. Summerfield; T. S. Cheng; A. Davies; E. F. Smith; A. N. Khlobystov; C. J. Mellor; T. Taniguchi; K. Watanabe; C. T. Foxon; L. Eaves; P. H. Beton; S. V. Novikov

doi:10.1038/s41598-017-07021-1

An atomic carbon source for high temperature molecular beam epitaxy of graphene

J. D. Albar, A. Summerfield, T. S. Cheng, A. Davies, E. F. Smith, A. N. Khlobystov, C. J. Mellor, T. Taniguchi, K. Watanabe, C. T. Foxon, L. Eaves, P. H. Beton, S. V. Novikov.

Scientific Reports 7 [1] 6598. 2017.

https://doi.org/10.1038/s41598-017-07021-1

Open Access Springer Nature (Publisher)

NIMS author(s)

Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)

Created at: 2017-09-04 22:03:25 +0900Updated at: 2024-03-29 23:17:54 +0900