D. Gerlach; D. Wippler; R. G. Wilks; M. Wimmer; M. Lozac'h; R. Félix; S. Ueda; H. Yoshikawa; K. Lips; B. Rech; M. Sumiya; K. Kobayashi; M. Gorgoi; J. Hüpkes; M. Bär

doi:10.1109/jphotov.2012.2224644

p-Type a-Si:H/ZnO:Al and μc-Si:H/ZnO:Al Thin-Film Solar Cell Structures—A Comparative Hard X-Ray Photoelectron Spectroscopy Study

著者	D. Gerlach, D. Wippler, R. G. Wilks, M. Wimmer, M. Lozac'h, R. Félix, S. Ueda, H. Yoshikawa, K. Lips, B. Rech, M. Sumiya, K. Kobayashi, M. Gorgoi, J. Hüpkes, M. Bär.
掲載誌名	IEEE Journal of Photovoltaics 3 [1] 483-487
出版社	Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
発表年	2013
言語	English
DOI	https://doi.org/10.1109/jphotov.2012.2224644
この文献をMendeleyにインポート